- Futurrex紫外负性光刻胶 NR71-250P
详细信息
型号:NR71-250P 品牌 产地 型号 曝光 应用 特性 优于正胶的优势 Futurrex 美国 NR71-250P i线曝光的高级
加工负胶系列
替代用
于RIE
加工及
离子植
入的正胶在RIE加工时优异
的选择性以及在离
子注入时优异的高
温耐受能力
厚度范围:﹤0.1~
200μm
可在i、g以及h-line
波长曝光控制表面形貌的优异线宽
任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
单次旋涂即可获得200 μm胶厚
厚胶同样可得到优越的分辨率
150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
优异的感光度进而增加曝光通量
更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟
光刻胶曝光时不会出现气泡
可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
优异的温度阻抗直至180 ℃
在反应离子束刻蚀或离子减薄时非常容易地增加能量密度,从而提高刻蚀速度和刻蚀通量
非常容易进行高能量离子注入
不必使用增粘剂如HMDSNR71-350P NR71-1000P NR71-1500P NR71-3000P NR71-6000P NR5-8000 NR71G-250P g和h线曝光的高
级加工负胶系列NR71G-350P NR71G-1000P NR71G-1500P NR71G-3000P NR71G-6000P NR5G-8000 -