• Futurrex紫外负性光刻胶 NR71-250P

    详细信息

     型号:NR71-250P    
    品牌 产地 型号 曝光  应用 特性 优于正胶的优势
    Futurrex 美国  NR71-250P i线曝光的高级
    加工负胶系列
     
     替代用
    于RIE
     加工及
     离子植
      入的正胶
         在RIE加工时优异
         的选择性以及在离
         子注入时优异的高
         温耐受能力

         厚度范围:﹤0.1~
         200μm
         可在i、g以及h-line
         波长曝光

    控制表面形貌的优异线宽
    任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
    单次旋涂即可获得200 μm胶厚
    厚胶同样可得到优越的分辨率
    150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
    优异的感光度进而增加曝光通量
    更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟
    光刻胶曝光时不会出现气泡
    可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
    优异的温度阻抗直至180 ℃
    在反应离子束刻蚀或离子减薄时非常容易地增加能量密度,从而提高刻蚀速度和刻蚀通量
    非常容易进行高能量离子注入
    不必使用增粘剂如HMDS

    NR71-350P
    NR71-1000P
    NR71-1500P
    NR71-3000P
    NR71-6000P
    NR5-8000
    NR71G-250P g和h线曝光的高
    级加工负胶系列
    NR71G-350P
    NR71G-1000P
    NR71G-1500P
    NR71G-3000P
    NR71G-6000P
    NR5G-8000
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