MicroChem / Nippon Kayaku - 光刻胶

PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种适用于多种微电子应用的聚合物材料，尤其适合电子束光刻和X射线曝光，具有高分辨率特性。PMMA光刻胶通过特定溶剂溶解并过滤制成，经曝光后可在曝光与未曝光区域间形成溶解度差异。PMMA系列包括495 A/C和950 A/C，其分子量和粘度各异，适用于不同精度要求的应用场景，如电子束光刻、T-Gate剥离及晶圆减薄等。
PMMA(polymethyl methacrylate)是一种非常适合许多成像和非成像微电子应用程序的聚合物材料。通常用于电子束工艺曝光，如T-gate制造。还用于临时晶片接合工艺如晶片减薄，用作保护层和临时粘合剂。



PMMA光刻胶是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶剂中，如苯甲醚（安全的溶剂），然后过滤。传统曝光，直接写曝光或X-射线曝光使聚合物的断链，从而在光刻胶的曝光和未曝光区域之间产生溶解度差异，实现非常高分辨率的图像。



PMMA的分类：

1）PMMA 495 A系列

2）PMMA 495 C系列

3）PMMA 950 A系列

4）PMMA 950 C系列

 

PMMA特性：

1）溶剂：苯甲醚（A）和氯苯（C）

2）非常适合于电子束光刻和X射线曝光

3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950适用于高分辨率的应用，PMMA 495则相对较低

4）广范围分子量和粘度

应用：电子束光刻、多层T-Gate剥离、晶圆减薄等。

 

相关溶液：

1）显影液：MIBK:IPA

2）去胶剂：Remover PG

3）稀释剂：A Thinner

来源：香港电子器材有限公司
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