- 电子束光刻胶SX AR-P系列
详细信息
型号:SX AR-P系列 特点:
• 用于高分辨率电子束曝光、单层 / 多层 lift-off 工艺、 石墨烯 / 碳纳米管转移、绝缘保护层等
• 感光波段:e-beam、deep UV(248nm)
• 高分辨率 (< 10nm),高对比度
• 多种分子量:50K、200K、 600K、 950K
• 多种溶剂:苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯
• 多种固含量实现了多种涂胶厚度
• 可定制特殊用 PMMA 胶
• 用于高分辨率电子束
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型号:SX AR-P系列 |
• 用于高分辨率电子束曝光、单层 / 多层 lift-off 工艺、 石墨烯 / 碳纳米管转移、绝缘保护层等
• 感光波段:e-beam、deep UV(248nm)
• 高分辨率 (< 10nm),高对比度
• 多种分子量:50K、200K、 600K、 950K
• 多种溶剂:苯甲醚、乳酸乙酯、氯苯
• 多种固含量实现了多种涂胶厚度
• 可定制特殊用 PMMA 胶
• 用于高分辨率电子束