- DOW 负性光敏光刻胶 半导体表面活性剂BCB4026-46
详细信息
型号:BCB4026-46
999
售卖地区
全国
优点
高深宽比,垂直性好
品质保障
质量过硬
厚度范围
0.1~200UM
材质
液体
*小包装量
18、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶:AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶:AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶:AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的
应用领域
显示器件 半导体
特色服务
技术支持
性质
负性
贮存方式
避光常温保管
类型
半导体材料
单位
ml
型号 -