Microchem 正性电子束光刻胶半导体制造950 PMMA

Microchem 正性电子束光刻胶半导体制造950 PMMA
详细信息

型号：950 PMMA

型号
PMMA 950
是否支持加工定制
是
服务保障
包装
瓶装
分辨率
高
封装
纸箱
*小包装量
1
售后
完善
耐腐蚀性
耐干腐蚀性
单位11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
毫升
发货地

存储条件
冰箱储存
是否进口
是

*详细需求：	Microchem 正性电子束光刻胶半导体制造950 PMMA
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