• FUTURREX 刻蚀工艺负性光刻胶半导体制造用 NR4-8000P

    详细信息

     型号:NR4-8000P    

    响应速度

    贮存方式
    避光常温保管
    厚度范围
    0.1~200UM
    加工定制

    优点
    高深宽比,垂直性好
    品名
    光刻胶
    包装
    250ml分装
    批号3、AZ 3100 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶:AZ3100
    4、AZ GXR-600 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶:AZ GXR-601
    5、AZ 5200E 系列应用于Lift-off工艺图形反转正/负可转换型光刻胶:AZ5206E、AZ5214E、AZ5218E和AZ5200NJ
    6、AZ MIR-700 系列中高解
    *新
    发货地
    售卖地区
    全国
    香型
    无味
    耐温
    180℃
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