屏蔽涂层光刻胶节省原料喷涂均匀KMPR系列

屏蔽涂层光刻胶节省原料喷涂均匀KMPR系列
详细信息

型号：KMPR系列

售卖地区
全球
公司保障
实力雄厚
是否进口
是
是否支持加工定制
是
有效成分含量15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料，AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶：AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学品系列：AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液
19、清洗液/ 稀释液：AZ EB
99
发货周期
现货
生产地址
国产、美国、瑞士、日本
特点
具有高深宽比，光刻后可以达到非常好的陡直度，基本垂直于衬底表面。
使用场景
正性光刻胶，广泛应用于半导体制造
资质
齐全
材

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