KAYAKU Microchem 正性电子束胶 耐刻蚀性好ZEP540A

PMMA(polymethyl methacrylate)是一种非常适合许多成像和非成像微电子应用程序的聚合物材料。通常用于电子束工艺曝光，如T-gate制造。还用于临时晶片接合工艺如晶片减薄，用作保护层和临时粘合剂。



PMMA光刻胶是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶剂中，如苯甲醚（安全的溶剂），然后过滤。传统曝光，直接写曝光或X-射线曝光使聚合物的断链，从而在光刻胶的曝光和未曝光区域之间产生溶解度差异，实现非常高分辨率的图像。



PMMA的分类：

1）PMMA 495 A系列

2）PMMA 495 C系列

3）PMMA 950 A系列

4）PMMA 950 C系列

 

PMMA特性：

1）溶剂：苯甲醚（A）和氯苯（C）

2）非常适合于电子束光刻和X射线曝光

3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950适用于高分辨率的应用，PMMA 495则相对较低

4）广范围分子量和粘度

应用：电子束光刻、多层T-Gate剥离、晶圆减薄等。

 

相关溶液：

1）显影液：MIBK:IPA

2）去胶剂：Remover PG

3）稀释剂：A Thinner

 

一般储存温度：

10-27℃

来源：香港电子器材有限公司
联系400-860-5168转2459
来源链接：https://www.instrument.com.cn/netshow/SH102459/C260443.htm
类型12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料，AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶：AZ 8112和AZ8100DB5
半导体材料
批号
*新