FUTURREX 厚胶负性光刻胶 粘附性能好  NR9-3000P  NR9-3000P   NR9-3000P

半导体材料型号齐全13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES16、AZ RELACS 涂布材料，AZ R200 & R500 涂布材料17、AZ 8100 系列光刻胶：AZ 8112和AZ8100DB518、辅助化学品系列：AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影响应速度快发货周期现货速发单位ml发货地货源充足数量999工艺精湛优点高深宽比，


 

可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶

 特性厚度范围 lt;0.1-120.0 µm对波长小于380nm的灵敏度优于表面拓扑的线宽控制直侧壁适合任何膜厚能够在单次旋涂中涂覆100 µm厚的膜由于应用了150°C的软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）出色的光速，可提高曝光量有助于提高RIE中的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量消除使用粘合促进剂RIE /离子耐高温          厚度                           湿法蚀刻                           厚度增强附着力NR7-250P             0.2um-0.6um                     NR9-250P                       0.2um-0.6umNR7-1000P           0.7um-2.1um                     NR9-1000P                  0.7um-2.1umNR7-1500P           1.1um-3.1um                     NR9-1500P                  1.1um-3.1umNR7-3000P           2.1um-6.3um                     NR9-3000P                  2.1um-6.3umNR7-6000P           5.0um-12.2um                   NR9-6000P                  5.0um-12.2umNR5-8000             5.8um-100.0um                 NR9-8000P                  6.0μm-100um耐温性= 150°C 在低于120°C的处理温           耐温性= 100°C。度下可在25°C剥离NR5和NR7系列抗蚀剂        NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力在25°C时易于剥离。Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR抗蚀剂分辨率的示例膜厚度：54µm掩模尺寸：12µm线/间隔曝光剂量：1100 mJ / cm 2。焦点偏移：-15µm。曝光工具：Ultratech步进土星模型，i-line