• 屏蔽涂层光刻胶节省原料性能稳定喷涂均匀KMPR系列

    详细信息

     型号:KMPR系列    
    AR-P 6510 AR-P 6510是在PMMA的基础上开发的厚胶。 另外,厂商可以根据客户的具体需求来生产其他分子量的LIGA工艺用胶。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。此类光刻胶型号齐全,厚度从10~250μm不等,图形剖面陡直。 
    负胶
     AR-N 7520AR-N 7500 电子束负胶,高分辨率(30nm),对比度高(> 5),良好的耐等离子刻蚀性能,可以用于混合曝光。灵敏度中等,介于AR-N 7700和PMMA之间。 
    AR-N 7700 电子束负胶,化学放大胶,高灵敏度,高对比度,良好的耐等离子刻蚀刻蚀性能,可以用于混合曝光。 
    AR-N 7720 电子束负胶,用于三维曝光工艺。 化学放大胶,高灵敏度,对比度非常小(<1),非常适合制作三维结构;也可以用于衍射光学及全息器件的加工。 
    X AR-N 7700/30SX AR-N 7700/37 化学放大负胶,高分辨率,良好的耐等离子刻蚀能力,适合混合曝光。高灵敏度,灵敏度比AR-N 7700更高。 

    配套试剂
    (Process chemicals)

    类型型号特性
    显影液 AR 300-26, -35 紫外光刻胶用 显影液 
    AR 300-44,-46,-47, -475 紫外/电子束光刻胶用 显影液 
    AR 600-50,-51,-55,-56 PMMA胶用 显影液 
    定影液 AR 600-60,-61 电子束光刻胶用 定影液 
    除胶剂 AR 300-70, -72, -73,600-70 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 
    稀释剂 AR 600-01…09 PMMA胶 稀释剂 
    AR 300-12 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 
    增附剂 AR 300-80, HMDS 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 

    SX AR-P 6200NEW! 超高分辨率电子束正胶,通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比(20:1)、超高对比度(>15)。良好的耐干法刻蚀性能,是传统PMMA胶的2倍。可替代ZEP胶,经济实惠,并且采购简单,包装规格多样化。 
    AR-P617PMMA/MA共聚物 适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高,是普通PMMA胶的3~ 4倍,对比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。 
    PMMA PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。(注:工厂可根据用户的需求,定AR-P 6510 AR-P 6510是在PMMA的基础上开发的厚胶。 另外,厂商可以根据客户的具体需求来生产其他分子量的LIGA工艺用胶。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。此类光刻胶型号齐全,厚度从10~250μm不等,图形剖面陡直。 
    负胶
     AR-N 7520AR-N 7500 电子束负胶,高分辨率(30nm),对比度高(> 5),良好的耐等离子刻蚀性能,可以用于混合曝光。灵敏度中等,介于AR-N 7700和PMMA之间。 
    AR-N 7700 电子束负胶,化学放大胶,高灵敏度,高对比度,良好的耐等离子刻蚀刻蚀性能,可以用于混合曝光。 
    AR-N 7720 电子束负胶,用于三维曝光工艺。 化学放大胶,高灵敏度,对比度非常小(<1),非常适合制作三维结构;也可以用于衍射光学及全息器件的加工。 
    X AR-N 7700/30SX AR-N 7700/37 化学放大负胶,高分辨率,良好的耐等离子刻蚀能力,适合混合曝光。高灵敏度,灵敏度比AR-N 7700更高。 

    配套试剂
    (Process chemicals)

    类型型号特性
    显影液 AR 300-26, -35 紫外光刻胶用 显影液 
    AR 300-44,-46,-47, -475 紫外/电子束光刻胶用 显影液 
    AR 600-50,-51,-55,-56 PMMA胶用 显影液 
    定影液 AR 600-60,-61 电子束光刻胶用 定影液 
    除胶剂 AR 300-70, -72, -73,600-70 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 
    稀释剂 AR 600-01…09 PMMA胶 稀释剂 
    AR 300-12 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 
    增附剂 AR 300-80, HMDS 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 

    SX AR-P 6200NEW! 超高分辨率电子束正胶,通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比(20:1)、超高对比度(>15)。良好的耐干法刻蚀性能,是传统PMMA胶的2倍。可替代ZEP胶,经济实惠,并且采购简单,包装规格多样化。 
    AR-P617PMMA/MA共聚物 适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高,是普通PMMA胶的3~ 4倍,对比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。 
    PMMA PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。(注:工厂可根据用户的需求,定
    优惠
    厂家直销
    服务保障
    售卖地区
    全球
    响应速度

    产品类型
    标准品
    资质
    齐全
    是否进口

    发货周期
    现货
    特点
    具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度,基本垂 直于衬底表面。
  • 留言

    *详细需求:
    *手  机:
    联 系 人:
    电    话:
    E-mail:
    公  司:
    谷瀑服务条款》《隐私政策
厦门良厦贸易有限公司 电话:05926013840 手机:13860121409 地址: 厦门市湖里区林后社699
内容声明:谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者,谷瀑(含网站、客户端等)所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布,其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实,如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的,请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认;谷瀑上存在海量店铺,如您发现店铺内有任何违法/侵权信息,请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。