耐溶剂耐水型光刻胶适用于CTS激光制版KMPR系列

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型号：KMPR系列

AR-P 6510 AR-P 6510是在PMMA的基础上开发的厚胶。另外，厂商可以根据客户的具体需求来生产其他分子量的LIGA工艺用胶。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。此类光刻胶型号齐全，厚度从10~250μm不等，图形剖面陡直。
负胶
AR-N 7520AR-N 7500 电子束负胶，高分辨率（30nm），对比度高（> 5），良好的耐等离子刻蚀性能，可以用于混合曝光。灵敏度中等，介于AR-N 7700和PMMA之间。
AR-N 7700 电子束负胶，化学放大胶，高灵敏度，高对比度，良好的耐等离子刻蚀刻蚀性能，可以用于混合曝光。
AR-N 7720 电子束负胶，用于三维曝光工艺。化学放大胶，高灵敏度，对比度非常小（<1），非常适合制作三维结构；也可以用于衍射光学及全息器件的加工。
响应速度
快
资质
齐全
货源
充足
价格
透明
产品等级
优级纯GR
加工定制
是
是否支持加工定制
是
服务体系
完善
服务保障

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