各类国产试剂：显影液、铬腐蚀液 锐材半导体 AZ 5218E

AR 300-44,-46,-47, -475 紫外/电子束光刻胶用 显影液 
AR 600-50,-51,-55,-56 PMMA胶用 显影液 
定影液 AR 600-60,-61 电子束光刻胶用 定影液 
除胶剂 AR 300-70, -72, -73,600-70 紫外/电子束光刻胶用 除胶剂 
稀释剂 AR 600-01…09 PMMA胶 稀释剂 
AR 300-12 紫外/电子束光刻胶用 稀释剂 
增附剂 AR 300-80, HMDS 紫外/电子束光刻胶用 增附剂 

SX AR-P 6200NEW! 超高分辨率电子束正胶，通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比（20:1）、超高对比度（>15）。良好的耐干法刻蚀性能，是传统PMMA胶的2倍。可替代ZEP胶，经济实惠，并且采购简单，包装规格多样化。 
AR-P617PMMA/MA共聚物 适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高，是普通PMMA胶的3~ 4倍，对比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。 
PMMA PMMA（polymethyl met
产品类型
标准品
产品等级
优级纯GR
有效成分含量
99％
是否进口
是
用途范围
广泛
存储条件
低温
运输方式
物流运输
口碑
良好
是否批发
是
价格
透明
品质保障
质量过硬
服务保障

公司保障
实力雄厚
优惠
厂家直销
品质
优良
资质
齐全
服务体系
完善
管理体系
成熟hacrylate）是电子束曝光工艺中常