本征高阻FZ硅片AZ PLP-30

本征高阻FZ硅片AZ PLP-30
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型号：AZ PLP-30

7、AZ MIR900 系列厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶：AZ MIR-900和AZ MIR-950
8、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、

尺寸：1—12英寸；定制尺寸；

晶向：<100>、<111>、<110>、<211>等和偏角度；

氧化层厚度：几纳米至几十微米；

表面：单面、双面氧化；

类型：N型/掺磷；P型/掺硼；区熔FZ本征高阻；

电阻率：按客户要求定制；

氧化工艺：干氧、湿氧、干湿结合、高压氧化、PECVD；

出货速度：长期备有大量现货，当天出库；

订制能力：各种参数均可订制；

经营：国内高质硅片，可提供日本、美国等大厂硅片；

用途：刻蚀率测定、金属打线测试、电性绝缘层。

AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATA

*详细需求：	本征高阻FZ硅片AZ PLP-30
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