钆镓石榴石单晶基片、AZ 8100 、AZ 8100

10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料，AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶：AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学品系列：AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液
19、清洗液/ 稀释液：AZ EBR7030和AZ 5200Thinner(1500Thinner)
20、HMDS：AZ AD PROMOTOR
21、辅助化学品系列：正型光刻胶剥离液(胺型)AZ Remover 100和AZ Remover 200，正型光刻胶剥离液(溶剂型)AZ Remover 700、AZ 400T Stripper(