氧化MgO单晶基片MIR-950

3、AZ 3100 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶：AZ3100
4、AZ GXR-600 系列高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶：AZ GXR-601
5、AZ 5200E 系列应用于Lift-off工艺图形反转正/负可转换型光刻胶：AZ5206E、AZ5214E、AZ5218E和AZ5200NJ
6、AZ MIR-700 系列中高解像度I线正型光刻胶：AZ MIR-701和AZ MIR-703
7、AZ MIR900 系列厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶：AZ MIR-900和AZ MIR-950
8、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系

尺寸:	10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，
	Ф15,Ф20，Ф1″，Ф2″等
厚度:	0.5mm，1.0mm
尺寸公差:	<±0.1mm
表面抛光:	单面或双面
取向：	＜100＞  ＜110＞  ＜111＞
晶面定向精度:	±0.5°
边缘定向精度:	2°（特殊要求可达1°以内）
斜切晶片：	可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片
Ra:	≤5Å（5µm×5µm）

列应用于高精度电镀工