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- 苏打基材 石英基材EZ8-S
详细信息
型号：EZ8-S 正型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反
射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BA"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”
450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm
*大尺寸(mm)
850*1200
特殊尺寸(mm)
按客户要求定做（XY=20~609mm）
基材厚度(mm)
1.6 2.3 3.0 4.8 7.8 8.0
2.3 3.0 5.0 6.4 8.0
铬膜类型
ARC Anti-Reflective Chrome
热性能（℃）
710℃
1730℃
温度收缩系数
8.1*10ˉ6(20~200 ℃)
5.0*10-7 /℃ (20~200℃)
透过率
>90%(T=2.3mm；l=400nm）
>90%(T=2.3mm；l=200nm）
折射率
1.52
1.46
垂直入射反射率
约8%（片面反射约4%）
约2%（片面反射约1%）
耐酸性能
H2SO4(80℃,99%) 0.1Å/min
H2SO4(80℃,98%) 0.0Å/min
耐碱性能
NaOH（Wt2%）0.8Å/min
NaOH（Wt2%）0.4Å/min
表面平整度
<20um（400*400*3.0mm)
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厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;清洗剂;剥离液;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶ALLRESIST
苏打基材 石英基材EZ8-S
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：EZ8-S
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-01-26
合计：1瓶总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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