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- SU-82000系列
详细信息
型号：2000系列 线I线通用正型光刻胶：AZ GXR-601
5、AZ 5200E 系列应用于Lift-off工艺图形反转正/负可转换型光刻胶：AZ5206E、AZ5214E、AZ5218E和AZ5200NJ
6、AZ MIR-700 系列中高解像度I线正型光刻胶：AZ MIR-701和AZ MIR-703
7、AZ MIR900 系列厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶：AZ MIR-900和AZ MIR-950
8、AZ DX3200P 系列应用于通孔图形的KrF正型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光-
进口SU-8光刻胶系列，克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（360nm-400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有侧壁和高深宽比的厚膜图形。
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SU-8光刻胶光刻工艺
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将SU-8光刻胶组分旋涂在基材上，旋涂厚度几至几百微米，涂覆晶圆片经过前烘并冷却至室温，在烘干过程中，优先选择加热均匀且温度控制
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精确的加热板；不能使用鼓风干燥箱，防止因为光刻胶表面优先固话从而阻止内层光刻胶溶剂的挥发，冷却后，将负光掩模与涂覆晶片接触并在汞灯的
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紫外辐射剂量10-250mJ/cm²条件下进行曝光，曝光结束后，选择适合的烘烤温度及时间，将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。
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SU-8光刻胶的优点
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1. SU-8光刻胶在近紫外光（356nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶 层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形
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2. SU-8光刻胶具有良好的力学性能，抗化学腐蚀性和热稳定性
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3. SU-8光刻胶在受到紫外辐射后发生交联，是一种化学扩大负性胶，可以形成台阶等结构复杂的图形
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厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;清洗剂;剥离液;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶ALLRESIST
SU-82000系列
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：2000系列
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-02-02
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