紫外光刻胶PhotoresistAR-P系列

紫外光刻胶PhotoresistAR-P系列
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型号：AR-P系列

型光刻胶：AZ DX3200P
9、AZ DX5200P 系列应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率KrF正型光刻胶：AZ DX2546P和AZ DX5200P
10、AZ P4000 系列超厚膜高感光度G线标准正型光刻胶AZ P4210 、AZ P4330、AZ P4400、AZ P4620 和AZ P4903
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层
用于掩膜板制作、精细结构加工、激光干涉曝光等

• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

• 可得到非常薄且均匀的膜

• 高灵敏度、高分辨率

• 良好的粘附能力，可用于耐干法和湿法刻蚀工艺

• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS 等 • 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好，图形边缘陡直

• 3220 透明度高，100μm 胶厚 ( 多层涂胶工艺 ) 也可正常曝光

• 具有良好的耐干法和湿法刻蚀能力 • 用于 IC 掩膜板加工等
材料：AZ BARLi-

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