特殊工艺用光刻胶AR-PC系列

特殊工艺用光刻胶AR-PC系列
详细信息
型号：AR-PC系列

11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率I线正型光刻胶：AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶：AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层：AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层材料：AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料，AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶：AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学

喷图用光刻胶，AR-P 1200( 正胶 ) ， AR-N 2200 ( 负胶 )

感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

胶膜表面平坦均匀 • 喷涂管道中不会产生气泡，喷涂时不易出现大液滴

图形反转胶，可作为紫外正胶或负胶使用

正胶工艺：正常曝光流程

负胶工艺：通过反转工艺实现

感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

品系列：AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液

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