- 电子束光刻胶 e-beam resistSX AR-P系列
详细信息
型号:SX AR-P系列
11、AZ 10XT 系列光刻胶应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率I线正型光刻胶:AZ 10XT(220cP)和10XT(520cP)
12、AZ PLP 系列应用于高精度电镀工艺的超厚膜正型光刻胶:AZ PLP-30和AZ PLP-40
13、AZ 顶部防反射涂层材料应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层:AZ AQUATAR 、AZ AQUATAR-45 、AZ AQUATAR-Ⅲ-45和 AZ AQUATAR-Ⅵ
14、Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
15、AZ 底部防反射涂层材料:AZ BARLi-Ⅱ、AZ KrF-BARC SERIES和AZ ArF-BARC SERIES
16、AZ RELACS 涂布材料,AZ R200 & R500 涂布材料
17、AZ 8100 系列光刻胶:AZ 8112和AZ8100DB5
18、辅助化学品系列:AZ 300MIF显影液、AZ 600MIF显影液、AZ 400K显影液和AZ 303N显影液
19、清洗液/ 稀释液:AZ EBR7030和AZ 5200Thinner(1500Thinner)
20、HMDS:AZ AD PROMOTOR
21、辅助nspector
Name of Product: Mg
L0t NO.: 5382057
Shape: φ50.8Xt3
items
spec.
No.1
No. Dimensions X (mm)
50.8, +0.0, -0.5
50.7
Dimensions Y (mm)
50.8, +0.0, -0.5
50.7
Dimensions T (mm)
3, ±0.2
3.1
Warp(mm)
≦0.2
0.0
Weight(g)
-
11.1
Appearance
Within Limit
-