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- KRi 射频离子源 RFICP 系列RFICP 40
详细信息
型号：RFICP 40 加工定制：否
射频离子源 RFICP 系列应用:
离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)Discharge 阳极
RF 射频
RF 射频
RF 射频
RF 射频
RF 射频
离子束流
>100 mA
>350 mA
>600 mA
>800 mA
>1500 mA
离子动能
100-1200 V
100-1200 V
100-1200 V
100-1200 V
100-1200 V
栅极直径
4 cm Φ
10 cm Φ
14 cm Φ
22 cm Φ
38 cm Φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
3-10 sccm
5-30 sccm
5-30 sccm
10-40 sccm
15-50 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
< 0.5m Torr
< 0.5m Torr
< 0.5m Torr
< 0.5m Torr
长度
12.7 cm
23.5 cm
24.6 cm
30 cm
39 cm
直径
13.5 cm
19.1 cm
24.6 cm
41 cm
59 cm
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厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;电池板;粘着剂;清洗剂;漂洗液;剥离液;增附剂;灌封胶;光刻胶;
KRi 射频离子源 RFICP 系列RFICP 40
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：RFICP 40
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2024-11-19
合计：1台总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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