- 金蚀刻液TFA
详细信息
型号:TFA 金蚀刻液 TFA 高纯度、低钠、0.2um过滤的蚀刻液可用于半导体和微电子领域,蚀刻金和镍。
TFAC 选择性的蚀刻液可用于砷化镓及其他三五族金属间化合物和半导体
GE-8148 选择性的蚀刻液可在镍膜使用,较快的蚀刻速率。可消除在种子层快速的侧向蚀刻。
GE-8110 控制蚀刻速度,可在镍膜使用。
GE-8111 低pH值,慢蚀刻速率,与镍相适应。
金/银清洗液 使用蚀刻液前预清洗
镍铬蚀刻液 TFN *小化的底切、优异的精细线条控制,一致化操作
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