扫一扫，手机浏览
- Micro Resist紫外正性光刻胶ma-N 400
详细信息
型号：ma-N 400 美国 NP9–250P i线曝光用粘度增强负胶系列 在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮（Polyioprene-Bisazide）的负胶。
在湿刻和电镀应用时超强的粘附力；很容易用去胶液去除。 单次旋涂厚度范围如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波长曝光
避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势：控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁
单次旋涂即可获得200 μm胶厚
厚胶同样可得到优越的分辨率
150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间
优异的感光度进而增加曝光通量
更快的显影，100 μm的光刻胶显影仅需6 ～ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡
可将一种显影液同时应用于负胶和正胶
不必使用增粘剂如HMDS
NP9–1000P NP9–1500P NP9–3000P NP9–6000P NP9–8000 NP9–8000P NP9–20000P NP9G–250P g和h线曝光用粘度增强负胶系列 NP9G–1000P NP9G–1500P NP9G–3000P NP9G–6000P NP9G–8000 Micro Resist 德国 ma-N 400 宽带或i线曝光 0.5 ～ 20 μm胶厚
非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影； -
供应商的其他相关信息
查看更多
-
厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;清洗剂;剥离液;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶ALLRESIST
Micro Resist紫外正性光刻胶ma-N 400
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：ma-N 400
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-04-02
合计：1台总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
￥面议
￥面议
￥面议
￥面议
￥面议- ￥面议
厦门良厦贸易有限公司 电话：05926013840 手机：13860121409 地址： 厦门市湖里区林后社699内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
