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- Micro Resist显影液ma~D332S
详细信息
型号：ma~D332S 品牌 产地 型号 特性 应用 对生产力的影响 Futurrex 美国 RD3 碱性水溶液
光胶图案显影
Futurrex临时粘层、
保护层和平坦化层的
去除
一种显影液可同时应用于
正胶和负胶在去除PC3系列
平坦化层时作为去除剂RD6 Micro Resist 德国 ma~D332S 避免接触酸
和氧化剂
用于半导体芯片
或微纳结构制作
用于光刻胶的显影 ma-D332 mr~Dev600 去胶液 1 品牌 产地 型号 性质 应用 对生产力的影响 Futurrex 美国 PR3 液体 去除加工完成后的光胶图案 缩短去除光胶的时间 PR4 PR41 PR5 Micro Resist 德国 mr-Rem 660 -
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厦门良厦贸易有限公司
咨询电话
13860121409刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;清洗剂;剥离液;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶ALLRESIST
Micro Resist显影液ma~D332S
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：ma~D332S
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-01-26
合计：1台总价：电议（联系我时，请说明是从谷瀑网看到的，谢谢！）店内推荐产品
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厦门良厦贸易有限公司 电话：05926013840 手机：13860121409 地址： 厦门市湖里区林后社699内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
