德国ALLRESIST 光刻胶/抗蚀剂 AR-N 4340 AR-N 4340

1.ALLRESIST光刻胶AR-N 4340
ALLRESIST光刻胶AR-N 4340是用于集成电路生产的高度敏感的负性抗蚀剂。光刻胶AR-N 4340提供高的灵敏度，出色的分辨率，良好的附着力，高对比度，耐等离子刻蚀，后续处理后温度稳定高达220°C，带有光化学产酸剂和胺基交联剂的酚醛清漆。

2.ALLRESIST光刻胶AR-N 2230
ALLRESIST光刻胶AR-N 2230是即用型正负喷涂抗蚀剂，适用于各种应用。光刻胶AR-N 2230一般用于平面晶圆，附着力好，表面光滑，均匀覆盖垂直沟槽，膜厚0,5至1微米，分辨率1微米，闪点37摄氏度，储存6个月后10至18摄氏度。

3.ALLRESIST光刻胶AR-N 4400-05
ALLRESIST光刻胶AR-N 4400-05是用于电镀，微系统技术和LIGA≤20μm的厚负性抗蚀剂。光刻胶AR-N 4400-05极高的灵敏度，易于移除，具有高边缘陡度的轮廓，可提供出色的分辨率，并覆盖拓扑，适用于*大10μm(250rpm)的胶片。

4.ALLRESIST光刻胶AR-P 3110
ALLRESIST光刻胶AR-P 3110是增强粘合力的正性抗蚀剂，用于生产掩模和精细的分度。光刻胶AR-P 3110具有高感光度，高分辨率，对关键的玻璃和铬表面具有很强的附着力，在湿法化学蚀刻过程中承受的应力，用于生产CD母版和晶格结构。

5.ALLRESIST光刻胶AR-P 3210
ALLRESIST光刻胶AR-P 3210是用于电镀和微系统技术的厚正型抗蚀剂。光刻胶AR-P 3210有高感光度，高分辨率，高边缘陡度的轮廓变暗。耐等离子腐蚀，电镀稳定，膜厚达40μm，酚醛清漆和萘醌二叠氮化物的组合