德国 ALLRESIST 紫外光刻胶AR-P 3200 厚胶

德国 ALLRESIST 紫外光刻胶AR-P 3200 厚胶
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型号：AR-P 3200 厚胶

. 紫外光刻胶（Photoresist）

1）各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。2）各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。3）各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。

电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist）

1）电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。2）电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。

特殊工艺用光刻胶（Special manufacture/experimental sample）

电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶，深紫外曝光胶等特殊工艺用胶。

4.配套试剂（Process chemicals）

显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。

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