• 进口厚膜负性化学放大胶 CJ2240-25

    详细信息

     品牌:进口  型号:CJ2240-25   
    厦门光刻胶     日本光刻胶
    扇出型封装(Fan-Out)的再布线层(RDL)
    硅通孔(TSV)绝缘层图形化
    MEMS制造‌
    惯性传感器、麦克风结构的厚胶模具
    功率器件‌
    IGBT/功率MOSFET的深槽蚀刻掩
    1. 储存‌:2-8°C冷藏,使用前室温平衡4小时
    2. 基片处理‌:需HMDS增附层提升粘附性
    3. 曝光剂量‌:建议梯度测试(200-600mJ/cm²)
    4. 设备兼容‌:推荐i-line或KrF光刻机(NA=0.4-0.6)
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