• 进口溶剂显影型负性光刻胶 CJ2280

    详细信息

     品牌:进口  型号:CJ2280   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    1. 高深宽比能力
      • 在45μm膜厚下可实现 ‌1:10 深宽比‌,适用于TSV(硅通孔)和厚膜结构。
    2. 优异的附着力
      • 对硅、玻璃、金属(Cu/Ni/Au)基板附着力强,通过百格测试ASTM D3359。
    3. 低溶胀显影
      • 溶剂显影过程线条变形率<2%,边缘粗糙度(LER)<0.15μm。
    4. 宽工艺窗口
      • 曝光剂量范围:180-350mJ/cm²;显影时间容忍度±20秒。

    典型应用场景

    • 功率器件‌:IGBT栅极蚀刻、MOSFET钝化层图形化
    • 先进封装‌:RDL(重布线层)、凸块下金属化(UBM)
    • MEMS制造‌:加速度计/陀螺仪结构层、喷墨打印头
    • LED芯片‌:P/N电极曝光、荧光粉隔离坝
  • 留言

    *详细需求:
    *手  机:
    联 系 人:
    电    话:
    E-mail:
    公  司:
    谷瀑服务条款》《隐私政策
厦门芯磊贸易有限公司 电话:17720872082 手机:13394069946 地址: 厦门市湖里区林后社699
内容声明:谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者,谷瀑(含网站、客户端等)所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布,其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实,如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的,请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认;谷瀑上存在海量店铺,如您发现店铺内有任何违法/侵权信息,请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。