• 进口全光谱正性光刻胶 CJ2135-5

    详细信息

     品牌:进口  型号:CJ2135-5   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
      • 在g-line(436nm)、h-line(405nm)、i-line(365nm)波段均保持高灵敏度,无需更换光刻胶即可兼容多型号曝光设备。
    1. 高分辨率与陡直度
      • 分辨率达亚微米级(0.3μm),侧壁陡直角≥88°,满足高精度微结构加工(如MEMS、IC封装)。
    2. 工艺宽容度高
      • 支持宽范围膜厚控制(0.5-3μm),旋涂速度与粘度关联性稳定,良品率≥95%。
    3. 环境稳定性
      • 25℃避光环境下保质期12个月,冷藏(0-5℃)可延长至18个月。

    典型应用场景

    领域 应用案例
    半导体封装 金凸块、RDL(重布线层)
    显示面板 TFT-LCD阵列、触摸屏电极刻蚀
    MEMS器件 微传感器结构、硅通孔(TSV)
    光学元件 衍射光栅、微透镜阵列
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