- 进口高分辨率防驻波I线正性光刻胶 CJ2138
详细信息
品牌:进口 型号:CJ2138 -
- 晶圆级封装(WLP)的重布线层(RDL)
- 凸块下金属化(UBM) 结构光刻
- 优势:
- 高分辨率(0.3μm)满足微凸点(≤30μm)精准开口
- 防驻波特性解决铜/铝垫高反射导致的线宽变形
2. 高密度集成电路制造
- 适用制程:
- 0.15-0.35μm节点 CMOS/逻辑器件 关键层
- 存储器(如NOR Flash)接触孔/通孔层
- 关键技术:
- 抑制硅基底反射,提升关键尺寸均匀性(CDU)
- 典型结构:
- 深硅刻蚀(DRIE)掩膜图形化
- 加速度计/陀螺仪微结构光刻
- 优势:
- 陡直侧壁(>88°)保障蚀刻转移精度
应用方向:
- OLED FMM(精细金属掩膜版)蚀刻图形化
- 玻璃基板TFT阵列光刻
- 性能亮点:
- 对ITO/金属层高反射基底兼容性优异
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