• 进口双层Lift-off底层胶 CJ2350

    详细信息

     品牌:进口  型号:CJ2350   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
      • 硅片清洗(Piranha溶液 → HF稀释液)
    1. 涂覆底层胶‌:
      • CJ2350旋涂(转速3000-4000rpm,厚度≈0.5~1μm)
      • 软烘(90-110℃/60s)
    2. 涂覆顶层胶‌:
      • 正胶(如AZ5214)旋涂(厚度≈1.2μm)
      • 前烘(100℃/90s)
    3. 曝光显影‌:
      • 紫外曝光(波长365nm,剂量80~120mJ/cm²)
      • 显影液(如AZ400K)溶解顶层胶区域
    4. 刻蚀底层胶‌:
      • O₂等离子体干法刻蚀(功率100W,时间30-60s),形成倒梯形结构
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