• 进口本征黑色正性 PAE-H910 series

    详细信息

     品牌:进口  型号:PAE-H910 series   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
    • 用于集成电路制造中的非关键层图形转移
    • 离子注入掩模‌:作为离子注入工艺的掩模材料
    • 金属互连刻蚀‌:用于金属互连层的光刻工艺

    2. 先进封装技术

    • 2.5D/3D封装‌:适用于先进封装技术中的光刻工艺
    • Chiplet技术‌:可能用于芯粒(Chiplet)封装中的图形转移

    3. 特殊工艺应用

    • 黑色光刻胶应用‌:本征黑色特性可能用于特定光学应用或抗反射层
    • 高对比度需求工艺‌:黑色光刻胶通常具有更高的对比度,适用于精密图形转移
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