• 进口正性光刻胶SUN-502P

    详细信息

     品牌:进口  型号:SUN-502P   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 刻蚀比可达0.875(胶 = 4.2:4.8)
    • 热稳定性‌:120℃高温下保持形状不变
    • 适用工艺‌:深刻蚀工艺,特别是7微米以上氮化镓刻蚀
    • 曝光方式‌:适用于i-线或汞灯全谱曝光
    • 图形特性‌:显影后侧边夹角为50-60°
    • 溶剂安全性‌:采用安全性溶剂,环保无害

    技术参数与组成

    技术参数

    参数类别 具体指标 数值范围
    刻蚀比 4.2:4.8
    热稳定性 *高工作温度 120℃
    适用刻蚀深度 氮化镓刻蚀 ≥7微米
    显影后角度 侧边夹角 50-60°
    曝光光源 适用光源 i-线/汞灯全谱
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