• 进口紫外正性光刻胶SUN-100P系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:SUN-100P系列   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
    • 非化学放大型i-线正性光刻胶
    • 分辨率‌:可达0.35微米HP(高分辨率)
    • 基底处理‌:大部分情况下无需HMDS处理基底
    • 工艺适应性‌:特别适应于高解析度干法刻蚀工艺
    • 金属离子浓度‌:低于20ppb

     

    • 曝光灵敏度‌:高
    • 对比度‌:高
    • 分辨率‌:高
    • 光刻成品率‌:高
    • 工艺宽容度‌:良好

    主要组成成分

    1. 光引发剂‌:重氮萘醌磺酸酯(DQN)类化合物
    2. 感光树脂‌:线性酚醛树脂(Novolac)
    3. 溶剂‌:安全溶剂(具体成分未公开)
    4. 其他添加剂‌:可能包含匀染剂、表面活性剂等助剂
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