- 进口纳米压印光刻胶SUN-1600N系列
详细信息
品牌:进口 型号:SUN-1600N系列 - 感光性能:优化适用于i-线和g-线紫外光刻
- 金属离子控制:金属离子浓度控制在20ppb以下
- 工艺宽容度:具有较高的工艺宽容度,适合多种应用场景
化学成分
根据光刻胶通用组成分析,SUN-1600N可能包含以下成分:
- 主体树脂:可能为酚醛树脂或聚羟基(PHOST),占比50%-80%,决定机械性能和化学稳定性
- 光敏化合物:可能包含重氮萘醌(DNQ)类光引发剂
- 溶剂系统:采用安全溶剂体系
SUN-1600N系列纳米压印光刻胶主要应用于以下领域:
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半导体制造:
- 图形化蓝宝石衬底(PSS)制造
- 集成电路相关工艺
- 0.35μm及以上线宽的IC制造
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微纳器件:
- 微机电系统(MEMS)制造
- 生物传感器制备
- 微纳光学器件加工
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显示技术:
- 触摸屏中的架桥层和钝化层制造
- LCD相关工艺
- 先进封装技术