• 进口纳米压印光刻胶SUN-1600N系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:SUN-1600N系列   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    • 感光性能‌:优化适用于i-线和g-线紫外光刻
    • 金属离子控制‌:金属离子浓度控制在20ppb以下
    • 工艺宽容度‌:具有较高的工艺宽容度,适合多种应用场景

    化学成分

    根据光刻胶通用组成分析,SUN-1600N可能包含以下成分:

    • 主体树脂‌:可能为酚醛树脂或聚羟基(PHOST),占比50%-80%,决定机械性能和化学稳定性
    • 光敏化合物‌:可能包含重氮萘醌(DNQ)类光引发剂
    • 溶剂系统‌:采用安全溶剂体系

     

    SUN-1600N系列纳米压印光刻胶主要应用于以下领域:

    1. 半导体制造‌:

      • 图形化蓝宝石衬底(PSS)制造
      • 集成电路相关工艺
      • 0.35μm及以上线宽的IC制造
    2. 微纳器件‌:

      • 微机电系统(MEMS)制造
      • 生物传感器制备
      • 微纳光学器件加工
    3. 显示技术‌:

      • 触摸屏中的架桥层和钝化层制造
      • LCD相关工艺
      • 先进封装技术
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