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- 进口正性光刻胶SUN-KrF100
详细信息
品牌：进口 型号：SUN-KrF100 厦门光刻胶 美国光刻胶-
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- 主要用于逻辑电路关键层(如离子注入、刻蚀掩模)的光刻工艺
- 特别适用于3D NAND堆叠架构等先进制程
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光刻工艺：
- 用于形成高分辨率图形(0.13-0.25μm)
- 适合需要形貌陡直的应用场景
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集成电路制造：
- 在集成电路制造中起到传感光线、刻画图形的关键作用
- 由于其稳定性和性能优势，在集成电路制造中具有广泛的应用前景
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厦门芯磊贸易有限公司
咨询电话
13394069946刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶 标准物质、化学试剂、实验室耗材、
进口正性光刻胶SUN-KrF100
页面价格仅供参考，具体请联系报价起批量 价格 - ≧1 瓶
￥20000.00
- 产品型号：SUN-KrF100
- 品 牌：进口
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-10-10
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厦门芯磊贸易有限公司 电话：17720872082 手机：13394069946 地址： 厦门市湖里区林后社699内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
