• 进口紫外负性剥离光刻胶SUN-lift1300系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:SUN-lift1300系列   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    光刻类型 光化学反应 负性
    工艺类型 适用工艺 lift-off剥离
    感光波长 适用光源 g/h/i-line
    胶厚范围 单次旋涂 2.2-4μm
    分辨率 极限线宽 微米级
    显影方式 显影液 碱性水溶液
    溶剂体系 环保性 安全溶剂

     

    1. LED制造‌:用于蓝宝石衬底(PSS)图案化工艺
    2. IC制造‌:适用于0.35μm及以上线宽的半导体工艺
    3. MEMS器件‌:微机电系统结构制造
    4. 先进封装‌:bumping工艺中的图形转移
    5. 显示技术‌:LCD相关微细加工
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