- 进口紫外负性剥离光刻胶SUN-lift1300系列
详细信息
品牌:进口 型号:SUN-lift1300系列 光刻类型 光化学反应 负性 工艺类型 适用工艺 lift-off剥离 感光波长 适用光源 g/h/i-line 胶厚范围 单次旋涂 2.2-4μm 分辨率 极限线宽 微米级 显影方式 显影液 碱性水溶液 溶剂体系 环保性 安全溶剂 - LED制造:用于蓝宝石衬底(PSS)图案化工艺
- IC制造:适用于0.35μm及以上线宽的半导体工艺
- MEMS器件:微机电系统结构制造
- 先进封装:bumping工艺中的图形转移
- 显示技术:LCD相关微细加工