• 进口负性光刻胶SUN-2000N

    详细信息

     品牌:进口  型号:SUN-2000N   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    • 显影原理‌:曝光区交联后不溶,非曝光区溶解
    • 图形特征‌:具有高粘附力和耐腐蚀性
    • 应用优势‌:适合高深宽比结构制造

     

    虽然搜索结果中未直接找到SUN-2000N的具体参数,但参考类似产品如SUN-1600N纳米压印光刻胶的参数,可推测其可能具有以下特性

    • 厚度范围‌:可能支持0.5-650μm的旋涂厚度
    • 光源要求‌:可能适用于i-line(365nm)紫外光源
    • 分辨率‌:可能支持微米级图形分辨率

    组成成分

    根据负性光刻胶的一般组成原理,SUN-2000N可能包含以下成分:

    1. 聚合物单体‌:如环氧树脂类单体
    2. 光敏剂‌:可能采用三芳基硫盐类光引发剂
    3. 溶剂‌:可能使用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)等安全溶剂‌
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