• 进口电子束光刻胶EBL 6000系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:EBL 6000系列   
    厦门光刻胶    美国光刻胶 
    1. 感光树脂‌:作为光刻胶的主体材料,通常采用PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)或HSQ(氢倍半硅氧烷)等电子敏感抗蚀剂‌
    2. 增感剂‌:提高光刻胶对电子束的敏感性
    3. 溶剂‌:调节光刻胶的粘度和涂覆性能

    通过电子束与光刻胶的相互作用,引发分子链断裂或交联,改变其在显影液中的溶解度,经显影后形成所需图形‌3。不同型号的EBL 6000可能采用不同的配方组合以满足特定应用需求。

     

    EBL 6000系列电子束光刻胶主要应用于以下领域:

    1. 光刻掩模版制作‌:为EUV光刻等量产技术提供高精度掩模版‌
    2. 先进原理样机开发‌:用于3nm以下制程研发、量子计算器件等前沿领域
    3. 纳米科学研究‌:二维材料器件、MEMS等纳米尺度器件的研制
    4. 小批量高精度加工‌:特别适合需要纳米级精度但产量不高的应用场景
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