- 进口电子束光刻胶EBL 6000系列
详细信息
品牌:进口 型号:EBL 6000系列 - 感光树脂:作为光刻胶的主体材料,通常采用PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)或HSQ(氢倍半硅氧烷)等电子敏感抗蚀剂
- 增感剂:提高光刻胶对电子束的敏感性
- 溶剂:调节光刻胶的粘度和涂覆性能
通过电子束与光刻胶的相互作用,引发分子链断裂或交联,改变其在显影液中的溶解度,经显影后形成所需图形3。不同型号的EBL 6000可能采用不同的配方组合以满足特定应用需求。
EBL 6000系列电子束光刻胶主要应用于以下领域:
- 光刻掩模版制作:为EUV光刻等量产技术提供高精度掩模版
- 先进原理样机开发:用于3nm以下制程研发、量子计算器件等前沿领域
- 纳米科学研究:二维材料器件、MEMS等纳米尺度器件的研制
- 小批量高精度加工:特别适合需要纳米级精度但产量不高的应用场景