• 进口电子束光刻胶ma-N2400系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:ma-N2400系列   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    1. 超导纳米线器件‌:特别适用于超导纳米线单光子探测器的制造‌
    2. 多层异质结构‌:可用于多层器件的加工,相比HSQ更适合多层制造工艺
    3. 纳米科学研究‌:适用于需要高精度纳米图案的科研应用
    4. 微机电系统(MEMS)‌:可用于复杂三维微结构的制造

     

    与HSQ光刻胶的比较

    对比项 ma-N2400 HSQ
    去除方式 可使用更温和的溶剂 需要强腐蚀性试剂
    多层工艺 更适合多层制造 可能损伤下层结构
    分辨率 ≤100nm 类似
    侧壁特性 陡峭 较平缓
    工艺复杂度 相对简单 较复杂
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