- 进口纳米压印胶mr-NIL 6000E
详细信息
品牌:进口 型号:mr-NIL 6000E - 固化方式:支持热固化和UV固化双重固化机制
- 厚度范围:0.1-150nm超薄涂布能力
- 分辨率:可实现纳米级图形制造
- 加工温度:光化学固化前Tg=40℃
- 工艺特点:支持接近等温加工处理,压印与脱模可在同一温度下完成
- 残余胶层:厚度可低至10nm
- 刻蚀性能:Plasma刻蚀阻抗优于传统Novolak基光胶
参数类别 具体指标 数值范围 类型 光刻胶类型 热固化和UV固化 适用工艺 纳米压印光刻 支持 厚度范围 涂布厚度 0.1-150nm 分辨率 图形制造能力 纳米级 固化前Tg 玻璃化转变温度 40℃ 残余胶层 *小厚度 10nm 刻蚀性能 Plasma阻抗 优于Novolak基光胶 - 纳米图形制造:用于制造纳米级图案结构
- 刻蚀工艺:作为刻蚀掩模材料使用
- 多层系统:适用于多层纳米结构的构建
- 光学元件:可用于制造超透镜等光学元件
- 半导体制造:在先进制程中作为辅助工艺材料