• 进口纳米压印胶mr-NIL 6000E

    详细信息

     品牌:进口  型号:mr-NIL 6000E   
    厦门光刻胶   美国光刻胶 
    • 固化方式‌:支持热固化和UV固化双重固化机制
    • 厚度范围‌:0.1-150nm超薄涂布能力
    • 分辨率‌:可实现纳米级图形制造
    • 加工温度‌:光化学固化前Tg=40℃
    • 工艺特点‌:支持接近等温加工处理,压印与脱模可在同一温度下完成
    • 残余胶层‌:厚度可低至10nm
    • 刻蚀性能‌:Plasma刻蚀阻抗优于传统Novolak基光胶

     

    参数类别 具体指标 数值范围
    类型 光刻胶类型 热固化和UV固化
    适用工艺 纳米压印光刻 支持
    厚度范围 涂布厚度 0.1-150nm
    分辨率 图形制造能力 纳米级
    固化前Tg 玻璃化转变温度 40℃
    残余胶层 *小厚度 10nm
    刻蚀性能 Plasma阻抗 优于Novolak基光胶

     

    1. 纳米图形制造‌:用于制造纳米级图案结构
    2. 刻蚀工艺‌:作为刻蚀掩模材料使用
    3. 多层系统‌:适用于多层纳米结构的构建
    4. 光学元件‌:可用于制造超透镜等光学元件
    5. 半导体制造‌:在先进制程中作为辅助工艺材料
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