• 进口紫外光刻胶-薄胶AZ 1500

    详细信息

     品牌:进口  型号:AZ 1500   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    • 敏范围‌:310-440nm紫外光谱,覆盖i(365nm)、h(405nm)和g(436nm)三条汞线
    • 抗蚀膜厚度‌:0.5-3微米(可通过旋涂速度调节)
    • 树脂基体‌:酚醛树脂或聚羟基苯乙烯(PHS)及其衍生物
    • 感光剂‌:重氮萘醌(DNQ)类化合物(含量5%-30%)
    • 溶剂体系‌:主要使用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)

     

    1. 高感光度‌:曝光后显影速度快,适合高产出率制造
    2. 优异附着力‌:特别为湿法刻蚀工艺优化,与多种基材(硅、玻璃、金属等)结合牢固
    3. 工艺宽容度‌:显影条件范围宽,可适应不同工艺需求
    4. 兼容性‌:
      • 与所有常见显影剂(基于NaOH、KOH或TMAH)兼容
      • 与所有常见剥离剂(如AZ 100去除剂、有机溶剂或碱性溶液)兼容
    5. 环保特性‌:相比前代产品,采用更环保的溶剂配方
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