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- 进口Lift off光刻胶ma-N 400系列
详细信息
品牌：进口 型号：ma-N 400系列 厦门光刻胶 美国光刻胶- 对紫外光(UV)敏感，适用于i-line(365nm)曝光
- 化学类型：负性光刻胶，采用化学放大技术
- 工艺兼容性：专为lift-off工艺优化，可实现高精度图形转移
- 耐刻蚀性：具有良好的耐等离子刻蚀性能
- 厚度范围：可通过旋涂工艺实现0.5-6μm的膜厚控制23
技术参数
参数类别 具体指标 数值范围 光敏波长 曝光光源 i-line(365nm) 光刻胶类型 化学性质 负性光刻胶 工艺类型 适用工艺 lift-off工艺 膜厚范围 旋涂厚度 0.5-6μm 分辨率 *小特征尺寸 未明确指定 对比度 显影特性 高对比度 耐刻蚀性 等离子刻蚀 良好耐性 -
微电子制造：
- 用于制作金属电极和互连线路
- 适用于MEMS器件的图形转移工艺
-
纳米加工：
- 用于制备纳米结构器件
- 适用于高精度图案化需求的应用
-
科研领域：
- 高校和研究所的微纳加工实验
- 新型器件原型开发
-
厦门芯磊贸易有限公司
咨询电话
13394069946刻蚀液;蚀刻液;清洗液;增粘剂;显影液;粘着剂;;增附剂;灌封胶;MicroChem光刻胶;Dupont集团光刻胶 Merck集团光刻胶 标准物质、化学试剂、实验室耗材、
进口Lift off光刻胶ma-N 400系列
页面价格仅供参考，具体请联系报价起批量 价格 - ≧1 瓶
￥20000.00
- 产品型号：ma-N 400系列
- 品 牌：进口
- 所 在 地：福建厦门
- 更新日期：2025-10-10
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厦门芯磊贸易有限公司 电话：17720872082 手机：13394069946 地址： 厦门市湖里区林后社699内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
