• 进口Lift off光刻胶AZ nLOF 2000系列

    详细信息

     品牌:进口  型号:AZ nLOF 2000系列   
    厦门光刻胶      美国光刻胶
    • 热稳定性‌:在250°C或更高温度下,交联的光刻胶图形几乎不会变形
    • 化学稳定性‌:对许多有机溶剂和强碱性介质稳定(但对KOH的Si刻蚀不稳定)
    • 电子束灵敏度‌:可将快紫外和高分辨率电子束光刻技术结合使用
    • 显影兼容性‌:建议使用AZ®326MIF、AZ®726 MIF或AZ®826 MIF显影液
    参数类别 具体指标 数值范围
    光刻胶类型 负性光刻胶 曝光区域交联
    热稳定性 工作温度 ≥250°C
    化学稳定性 耐溶剂性 对多数有机溶剂稳定
    显影液 推荐类型 AZ®326MIF/AZ®726 MIF/AZ®826 MIF
    应用工艺 光刻技术 电子束/紫外光刻
    1. 纳米工程‌:用于纳米结构加工和微纳器件制造
    2. MEMS工艺‌:微机电系统制造中的关键材料
    3. 传感器制造‌:芯片传感器微加工工艺
    4. 光学器件‌:微结构功能化处理
    5. 电子束光刻‌:高分辨率图案转移
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