- 进口Lift off光刻胶AZ nLOF 2000系列
详细信息
品牌:进口 型号:AZ nLOF 2000系列 - 热稳定性:在250°C或更高温度下,交联的光刻胶图形几乎不会变形
- 化学稳定性:对许多有机溶剂和强碱性介质稳定(但对KOH的Si刻蚀不稳定)
- 电子束灵敏度:可将快紫外和高分辨率电子束光刻技术结合使用
- 显影兼容性:建议使用AZ®326MIF、AZ®726 MIF或AZ®826 MIF显影液
参数类别 具体指标 数值范围 光刻胶类型 负性光刻胶 曝光区域交联 热稳定性 工作温度 ≥250°C 化学稳定性 耐溶剂性 对多数有机溶剂稳定 显影液 推荐类型 AZ®326MIF/AZ®726 MIF/AZ®826 MIF 应用工艺 光刻技术 电子束/紫外光刻 - 纳米工程:用于纳米结构加工和微纳器件制造
- MEMS工艺:微机电系统制造中的关键材料
- 传感器制造:芯片传感器微加工工艺
- 光学器件:微结构功能化处理
- 电子束光刻:高分辨率图案转移