• 进口Lift off光刻胶LOR

    详细信息

     品牌:进口  型号:LOR   
    厦门光刻胶   美国光刻胶
    1. 厚度要求‌:光刻胶厚度/被剥离金属厚度≥3,但过厚会影响分辨率‌
    2. 形态要求‌:需要形成under cut结构(侧壁角度>90°),便于后续金属剥离‌
    3. 溶解性能‌:可被特定溶剂(如TMAH或KOH)快速溶解‌
    4. 热稳定性‌:玻璃化转变温度(Tg)约190℃‌

     

    • 高分辨率(可达0.25µm双层抗蚀成像)
    • 适用于厚金属剥离(>3µm)
    • 在TMAH双叠层一步显影或KOH显影中表现良好‌

     

      • 金属电极形成
      • 贵金属和耐腐蚀材料的剥离工艺
      • 高分辨率金属化(<0.25µm)
    1. MEMS制造‌:

      • 桥制造
      • 释放层制备
    2. 其他应用‌:

      • 数据存储器件制造
      • 无线IC制造‌
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