- 进口Lift off光刻胶LOR
详细信息
品牌:进口 型号:LOR - 厚度要求:光刻胶厚度/被剥离金属厚度≥3,但过厚会影响分辨率
- 形态要求:需要形成under cut结构(侧壁角度>90°),便于后续金属剥离
- 溶解性能:可被特定溶剂(如TMAH或KOH)快速溶解
- 热稳定性:玻璃化转变温度(Tg)约190℃
- 高分辨率(可达0.25µm双层抗蚀成像)
- 适用于厚金属剥离(>3µm)
- 在TMAH双叠层一步显影或KOH显影中表现良好
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- 金属电极形成
- 贵金属和耐腐蚀材料的剥离工艺
- 高分辨率金属化(<0.25µm)
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MEMS制造:
- 桥制造
- 释放层制备
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其他应用:
- 数据存储器件制造
- 无线IC制造