• 进口Lift off光刻胶LOL2000

    详细信息

     品牌:进口  型号:LOL2000   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    1. 艺适应性‌:

      • 专门优化用于金属剥离工艺
      • 形成under cut结构,便于后续剥离
      • 光刻胶厚度/被剥离金属厚度≥
    2. 镀膜兼容性‌:

      • 推荐使用蒸镀方式而非溅射镀膜
      • 避免金属将光刻胶断面包覆导致剥离困难
    3. 图形质量‌:

      • 剥离后形成的金属电极边缘光滑
      • 避免毛刺和不规则边缘

     

    1. 微电子制造‌:

      • 制作金属电极
      • 半导体器件互连结构
    2. 微纳加工‌:

      • MEMS器件制造
      • 微传感器图案化
    3. 科研应用‌:

      • 实验室微纳结构研究
      • 新型器件原型开发
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