• 进口美国光刻胶纳米压印胶mr-NIL 6000E

    详细信息

     品牌:进口  型号:mr-NIL 6000E   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    固化方式 热固化/UV固化 双功能
    涂布厚度 工作范围 0.1-150nm
    玻璃化温度 固化前Tg 40℃
    残余胶层 *小厚度 10nm
    刻蚀性能 Plasma阻抗 优于Novolak基光胶
    加工方式 压印工艺 等温加工(压印与脱模同温)

     

    1. 纳米图形制造‌:

      • 用于制造纳米级图案结构
      • 适用于高精度微纳加工需求
    2. 刻蚀工艺‌:

      • 作为刻蚀掩模材料
      • 提供优异的刻蚀选择比
    3. 多层系统‌:

      • 适用于多层纳米结构堆叠
      • 可实现高保真度图案转移
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