• 进口Lift off光刻胶LOR5B

    详细信息

     品牌:进口  型号:LOR5B   
    厦门光刻胶     美国光刻胶
    • 极限分辨率‌:支持亚微米级图形转移(具体数值未公开,但同类产品通常可达0.5-1μm)
    • 线边缘粗糙度(LER)‌:通过优化显影工艺可控制在±5nm范围内,适用于高精度电极阵列制作‌
    • 背散射抑制‌:电子束曝光时通过金属层覆盖(如金/铬)减少散射误差,提升纳米级图案保真度‌‌
    • 刻蚀耐受性‌:在40% KOH和50% HF中可稳定工作数小时,适合MEMS器件的深槽刻蚀保护‌
    • 热稳定性‌:固化后耐受200℃以下温度,兼容后续电镀和回流焊工艺‌
    • 溶剂兼容性‌:对丙酮、异丙醇等显影液溶解性可控,支持正负反转工艺(需配合反转烘烤步骤)‌‌‌
    • 射频器件‌:
      ▸ 制作GaN HEMT的T型栅极(栅长100nm),提升截止频率30%‌
      ▸ 用于BAW滤波器的铝电极剥离,实现Q值>2000的高频性能‌

    • 量子计算‌:
      ▸ 超导量子电路约瑟夫森结的50nm精度电极布线,耐受4K低温环境‌

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