- 进口Lift off光刻胶LOR10B
详细信息
品牌:进口 型号:LOR10B -
超导量子电路
▸ 应用:制作Nb/AlOx/Nb约瑟夫森结(50nm精度)
▸ 优势:耐受稀释制冷机低温环境(4K) -
拓扑量子计算
▸ 关键结构:马约拉纳零能模纳米线阵列
▸ 工艺:配合电子束光刻实现20nm间隙电极
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品牌:进口 | 型号:LOR10B |
超导量子电路
▸ 应用:制作Nb/AlOx/Nb约瑟夫森结(50nm精度)
▸ 优势:耐受稀释制冷机低温环境(4K)
拓扑量子计算
▸ 关键结构:马约拉纳零能模纳米线阵列
▸ 工艺:配合电子束光刻实现20nm间隙电极