• 进口KMPR 1000系列KMPR 1005

    详细信息

     品牌:进口  型号:KMPR 1005   
    厦门光刻胶    美国光刻胶
    耐化学性 耐溶剂型 耐低温(4K)及耐辐射
    应用场景 激光制版、常规微纳加工 量子器件、射频器件、极端环境
    工艺复杂度 常规lift-off工艺 需超临界CO₂清洗等特殊工艺

    (1) 激光制版

    • 案例‌:用于高精度掩模版制作,支持CTS(计算机直接制版)技术‌
    • 优势‌:图形边缘锐利,适合重复性图案批量生产

    (2) 微机电系统(MEMS)

    • 结构加工‌:制作金属微电极阵列(如Au/Cr多层结构)
    • 工艺适配‌:与深反应离子刻蚀(DRIE)工艺兼容
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